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镀膜材料
Thin Film Deposition Materials/薄膜沉积材料
Cerac 靶材 (HfO2)
Cerac 靶材 (HfO2)
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Cerac 靶材 (HfO2)
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Thin Film Deposition Materials/薄膜沉积材料
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VAPOR BARRIER FILMS
: Thin film application of Physical Vapor Deposition (PVD) materials on polyimide is a vapor barrier film appropriate for flexible circuits and sensors. The polyimide material may be wet or dry film. Pr
International Confer
: International Conference on Optoelectronics and Microelectronics 2012 ( ICOM 2012) , Changchun, China, 8/23-25, 2012
Corning 原厂UL94-V0,VW
: Corning 原厂UL94-V0,VW-1581,阻燃抗拉900μm紧套缆。
日本/国产 JGS2
: 日本/国产 JGS1,性价比高,欢迎来电垂询!
康宁超纯熔石英玻璃材料HPFS 8650
: 材料最初是 Corning专门为美国航空航天设备开发的,后来逐步用到商业领域。 Corning 针对Schott 和 Russia对应的材料做过对比, Corning的产品的均匀性、一致性上有明显优势, 最关键的是,在光学、机械特性相近的情况下,Corning的产品材料应力非常小,并且稳定。 国内目前可提供熔石英,但一致性及可靠性上差距明显。 用途: 微光刻应用:光刻机透镜,光掩模基板
铈研磨垫 / CERIUM PADS
: 九重铈研磨垫为特殊硬质聚乙烯树脂制造的发泡体,具有迅速抛光的作用及卓越的耐久性,在高速、高负荷研磨中发挥优越的特性。 <用途> 光学玻璃、眼镜镜片、液晶用玻璃、其它玻璃产品的精密研磨 不锈钢等金属、塑料、宝石、石英等材料的表面研磨 硅、锗等半导体单晶片的镜面研磨 <特点> 优异的耐久性········缩短作业时间并降低成本 质量的稳定性··